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PRODUCT CLASSIFICATIONMono- and Multi-crystalline wafer and brick lifetime measurement device
應用范圍:用于常規質量控制、精密材料研發的單晶和多晶片及晶錠的壽命測量
根據SEMI標準PV9-1110的非接觸式和無損成像(μPCD / MDP(QSS))、光電導性、電阻率和p/n檢查。
晶圓切割,爐內監控,材料優化等。
日常壽命測量,質量控制和檢驗
◆產量:>240塊/天或>720片/天
◆測量速度:對于156x156x400mm標準晶錠,<4分鐘
◆生產改善:1mm切割標準為156x156x400mm標準晶錠
◆質量控制:用于過程和材料的質量監控,如單晶硅或多晶硅
◆污染測定:起源于爐和設備的金屬(Fe)
◆可靠性:模塊化和堅固耐用的工業儀器,更高的可靠性和運行時間> 99%
◆可重復性:> 99.5%
◆電阻率:不需要經常校準
精密材料研發
鐵濃度測定
陷阱濃度測定
硼氧測定
依賴于注入的測量等
特性
*無觸點無破壞的半導體特性
特殊的“表面之下”壽命測量技術
不可見缺陷的 靈敏度的可視化
自動切割標準定義
空間分辨p/n電導型變換檢測
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服務電話:
021-34685181 上海市松江區千帆路288弄G60科創云廊3號樓602室 wei.zhu@shuyunsh.com